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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】解釋什么是靜電釋放，并給出在硅片制造中由ESD引起的三種問(wèn)題及ESD的三中控制方法。
答案：
ESD是指靜電荷從一個(gè)物體向另一個(gè)物體末經(jīng)控制地轉(zhuǎn)移。
ESD的危害性：
會(huì)使硅表面形成電荷積累，吸...
ESD的危害性：
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】說(shuō)明五類(lèi)凈化間的沾污。
答案：
凈化間沾污的主要類(lèi)型：顆粒；金屬雜質(zhì)；有機(jī)物沾污；自然氧化層；靜電釋放（ESD）
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】給出半導(dǎo)體制造中沾污及致命缺陷的定義。
答案：
沾污：是指半導(dǎo)體制造過(guò)程中引入到半導(dǎo)體硅片上的任何危害芯片成品率及電學(xué)性能的不希望有的物質(zhì)。
致命缺陷：是指導(dǎo)...
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