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判斷題
TEM觀測(cè)與SEM相同,對(duì)樣品厚度沒(méi)有要求。
答案:
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判斷題
通常利用TEM觀測(cè)的分辨率高于SEM。
答案:
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單項(xiàng)選擇題
光刻技術(shù)中的反刻工藝,通常應(yīng)用于()的情況。
A.對(duì)光刻精度較高
B.光刻圖案密度較高
C.光刻的材料易于腐蝕
D.光刻的材料難以腐蝕
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