問答題

【簡答題】列出熱氧化物的硅片制造的六種用途，并給出各種用途的目的。

答案： 金屬層間絕緣阻擋層：用做金屬連線間的保護(hù)層。
注入屏蔽氧化層：用于減小注入夠到和損傷。
勢氧化層：做...
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問答題

【簡答題】為什么刪氧要用熱生長？
答案： 因?yàn)闁叛跖c其下的Si具有高質(zhì)量和穩(wěn)定性的特點(diǎn)，柵氧一般通過熱生長獲得。
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【簡答題】描述場氧化層及其厚度范圍。
答案： 場氧化層：抑制金屬層的電荷堆積的厚氧化層
范圍：2500~12000 * 10^-10（A...
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