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問答題
【論述題】簡述在熱氧化過程中雜質再分布的四種可能情況。
答案：
如果假設硅中的雜質分布是均勻的，而且氧化氣氛中又不含有任何雜質，則再分布有四種可能。①分凝系數m＜l，且在SiO
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