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【簡答題】有哪幾種常用的化學氣相淀積薄膜的方法?
答案:
常壓化學氣相淀積(APCVD.,
低壓化學氣相淀積(LPCVD.,
等離子體輔助CVD。
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【簡答題】簡述光刻工藝原理及在芯片制造中的重要性?
答案:
1.光刻是通過一系列生產步驟將晶圓表面薄膜的特定部分除去并得到所需圖形的工藝。
2.光刻的重要性是在二氧化硅或...
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【簡答題】簡述在芯片制造中對金屬電極材料有什么要求?
答案:
1、能很好的阻擋材料擴散;
2、高電導率,低歐姆接觸電阻;
3、在半導體和金屬之間有很好的附著能力;...
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