A.蒸鍍工藝的普適性更好B.濺射工藝的普適性更好C.濺射工藝薄膜質(zhì)量(如粘附性、保形性等)更好D.蒸鍍工藝薄膜質(zhì)量(如粘附性、保形性等)更好
A.襯底放在面積大的電極上B.靶放在面積大的電極上C.襯底放在面積小的電極上D.靶放在面積小的電極上
A.射頻濺射B.LPCVDC.電阻蒸鍍D.PECVD